Equipos

Nanotecnología

Esta Unidad dispone del siguiente equipamiento:

  • Alineadora de Máscaras para Litografía Óptica Quintel EXPO line 4k6

Sistema para alineamiento de máscaras con lámpara UV de Hg de 350W, para tamaños de sustrato entre 1 cm. y 4" de diámetro.

alineadora

  • Microscopio electrónico con Sistema de Litografía electrónica Raith Elphy Plus.

Sistema de litografía por haz de electrones Raith Elphy Plus instalado en un microscopio electrónico de barrido LEO EVO 60

microoscopio electrónico

microoscopio electrónico 2

  • Microscopio de Barrido de Punta Nanotec

Microscopio de barrido de punta Nanotec equipado para Microscopía Tunel (STM), Microscopía de Fuerzas (AFM), Microscopía de Fuerza Magnética (MFM) al aire o en celda de líquidos.

microoscopio de barrido

microoscopio de barrido 2

microoscopio de barrido 3

microoscopio de barrido 4

Membranas Nanoporosas

La Unidad dispone del siguiente equipamiento:

  • Microscopio de efecto Kerr Magneto-Óptico (NanoMOKE 3, Durham Magneto-Optics)

    Este microscopio magneto-óptico permite la visualización de dominios magnéticos superficiales en muestras planas o micro/nano-estructuradas, así como la medida de ciclos de histéresis magnética a nivel superficial, y puede operar en las configuraciones longitudinal y/o polar. Dispone de un imán dipolar que permite aplicar una campo magnético máximo de 0.46 T y de un imán cuadrupolar que permite aplicar campos magnéticos vectoriales de hasta 0.12 T en cada una de las componentes XY.

     

  • Reactor de deposición de capas atómicas (ALD, Savannah 100, Cambridge Nanotech)

    Este reactor permite la deposición de capas ultradelgadas con espesor y composición controlados a escala atómica y que replican la morfología del sustrato de partida. El abanico de materiales que es posible depositar abarca tanto óxidos semiconductores (TiO2, ZnO) y óxidos semiconductores dopados (ZnO:Al), así como óxidos aislantes (Al2O3, SiO2, entre otros).

     

  • Vitrina química extractora de gases

    Con caudal de extracción auto-regulable, tomas de aire comprimido, gases inertes (N2 y Ar) y agua, y resistente a los disolventes y medios ácidos con los que se realizan los procesos electroquímicos de anodización.

    vitrina química

     

  • Pulidora mecánica Minimet (Buheler)

    Permite la preparación previa de las muestras de Aluminio y de Titanio, logrando obtener una superficie con pulido óptico de nivel especular a partir de las muestras inicialmente texturadas

  • Balanzas de precisión (0.01 g y 0.001 g.)

    Para preparar las disoluciones de los elementos químicos de los distintos electrolitos que se utilizan en los procesos de anodización, así como de los posteriores materiales funcionales nanoestructurados que se embeben en las mencionadas membranas nanoporosas por electrodeposición.

  • Baños refrigerantes ThermoHaake

    Rango de temperatura de funcionamiento: desde 150 hasta -25 ºC, que permiten realizar los procesos de anodización en condiciones controladas de temperatura.

  • Termómetros

    Controladores de la temperatura de los baños refrigerantes.

  • Agitadores/calefactores

    Necesarios para realizar las mezclas de los electrolitos, así como de los agentes químicos que intervienen en diversas etapas durante la síntesis de las membranas nanoporosas realizadas a temperaturas moderadamente altas, 30-60 ºC.

  • Fuente de alimentación de corriente continua Xantrex (300 V, 9 A)

    Utilizada en los procesos de electropulido químico para eliminar imperfecciones y rugosidades de las láminas de alta pureza de partida, así como para realizar los procesos de anodización, donde se trabajará en el modo de voltaje constante (modo potenciostático).

  • Fuente estabilizada AMEL (potenciostato/galvanostato)

    Permite controlar los procesos de electrodeposición, tanto en modo pulsado como en los modos potenciostático o galvanostático. Permite también la realización de estudios voltamperométricos para la determinación de las condiciones óptimas de electrodeposición para cada tipo de baño electrolítico.

  • Fuentes de voltaje constante Thandar (30V, 2 A)

    Para alimentar el sistema de agitación del electrolito en el interior de la celda de anodización.

  • Multímetros duales (V-I) Fluke;

    Fuentes de intensidad/voltaje constante, Keithley (2A /220 -1100V); Osciloscopio de banco Tektronix, etc.
    Dicho equipamiento cuenta, además, con la posibilidad de incorporar varios complementos o accesorios para contemplar la posibilidad de permitir realizar en este mismo equipamiento procesos de electrodeposición en un amplio espectro de materiales de distinta naturaleza (metálicos, magnéticos, semiconductores, etc.).

 

Enlaces rápidos

El equipamiento de estas instalaciones está cofinanciado por el Fondo Europeo de Desarrollo Regional (FEDER), con la gestión del Ministerio de Economía y Competitividad.

El equipamiento de estas instalaciones está cofinanciado por el Fondo Europeo de Desarrollo Regional (FEDER), con la gestión del Ministerio de Economía y Competitividad.